微纳光电子功能材料实验室
光电材料事业部
镓酸钕(NdGaO3)
NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片，主要用作高温超导体（如YBCO）及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小（~0.27%），且无结构相变，在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。
| 主要性能参数 | |
| 晶体结构 | 正交 |
| 晶胞参数Å | a=5.43、b=5.50、c=7.71 |
| 熔点 | 1600 ℃ |
| 密度 | 7.57g/cm3 |
| 介电常数 | 25 |
| 生长方法 | 提拉法 |
| 尺寸 | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， |
| 厚度 | 0.5mm，1.0mm |
| 抛光 | 单面或双面 |
| 晶向 | ＜100＞ ＜110＞ ＜001＞ |
| 晶面定向精度: | ±0.5° |
| 边缘定向精度: | 2°（特殊要求可达1°以内） |
| 斜切晶片 | 可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 |
| Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
| 包装 | 100级洁净袋，1000级超净室 |
