氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件,具有很大的现实及潜在应用市场。
| 主要性能参数 | |
| 生长方法 | 电弧法 |
| 晶体结构 | 立方 |
| 晶格常数 | a=4.130 Å |
| 熔点 | 2800(℃) |
| 纯度 | 99.95% |
| 密度 | 3.58(g/cm3) |
| 硬度 | 5.5(mohs) |
| 热膨胀系数 | 11.2x10-6(/℃) |
| 晶体解理面 | <100> |
| 光学透过 | >90%(200~1000nm) |
| 介电常数 | ε= 9.65 |
| 热导率 | 36 W/m.k @ 300°K |
| 尺寸 | 5x5,10x10,20x20,30x30mm ,Ø50.8 mm |
| 厚度 | 0.5mm,1.0mm |
| 抛光 | 单面或双面 |
| 晶向 | <001>, <110>,<111> |
| 晶面定向精度: | ±0.5° |
| 边缘定向精度: | 2°(特殊要求可达1°以内) |
| Ra: | ≤5Å(5µm×5µm) |
| 包装 | 100级洁净袋,1000级超净室 |