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掺钇氧化锆(YSZ)
氧化锆（ZrO2）单晶基片是最早开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2 需掺入钇（Y）以稳定结构，一般实际使用的是YSZ单晶---加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在是阳性薄膜制备工作中。
主要性能参数 | |
晶体结构 | 立方 |
晶格常数 | a=5.147 Å |
熔点（℃） | 2715 |
密度（g/cm3） | 6.0 |
硬度 | 8-8.5（mohs） |
纯度 | 99.99% |
热膨胀系数（/℃） | 10.3×10-6 |
介电常数 | ε=27 |
生长方法 | 电弧熔化法，冷坩埚法 |
折射率 | 2.1517@633nm |
尺寸 | 5*5mm，10x5mm，10x10mm，15x15mm，20x20mm，30*30mm |
Ø50.8mm, Ø76.2mm, Ø100mm | |
厚度 | 0.5mm，1.0mm |
抛光 | 单面或双面 |
晶向 | <001>,<110>,<111> |
晶面定向精度: | ±0.5°或者±0.3° |
参考边定向精度: | 1° |
其他 | 可根据客户要求定制晶向和尺寸， |
Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
包装 | 100级洁净袋，1000级超净室 |
