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外延薄膜 >> Pt/Ti/SiO2/Si ,Au/Cr/Si >> Pt/Ti/SiO2/Si Au/Cr/Si
Pt/Ti/SiO2/Si Au/Cr/Si
 

01
 
简要介绍
通过磁控溅射方法在硅片镀膜,制备Pt/Ti/SiO2/Si  Au/Cr/Si基片,
详细参数

 

主要性能参数

Pt/Ti/SiO2/Si

Au/Cr/Si

制备方法:

磁控溅射

磁控溅射

导电类型

P型 掺B,N型掺P

P型掺B, N型掺P

膜厚 :

Pt:150nm;过渡层Ti:20nm SiO2 500nm

Au,40~100nm,过渡层Cr,20nm

硅片晶向

<100>或者<111>

<100>或者<111>

常规尺寸:

Dia4"Dia2"10mm*10mm 10mm*5mm

Dia2"10mm*10mm 10mm*5mm

 

 

 

 

 

 

                                            

 
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