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薄膜衬底 >> GaN 薄膜基片 >> 氧化镁(MgO)
氧化镁(MgO)
 

03
 
简要介绍
       氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
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详细参数

 

主要性能参数

生长方法

弧熔法

晶体结构

立方

晶格常数

a=4.130 Å 

熔点(

2800

纯度

99.95%

密度(g/cm3

3.58

硬度

5.5mohs

热膨胀系数(/

11.2x10-6

晶体解理面

<100>

光学透过

>90%200~400nm),>98%500~1000nm

介电常数

ε= 9.65

热导率(卡/度 厘米 秒)

0.14  300°K

尺寸

10x310x510x1015x15,,20x1520x20

dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

厚度

0.5mm1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

<001>±0.5º

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

(特殊要求可达以内)

斜切晶片

可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角45°)的晶片

Ra:

≤5Å5µm×5µm

主要特点

 由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。

主要用途

用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

包装

100级洁净袋,1000级超净室

 
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