微纳光电子功能材料实验室
光电材料事业部

粉体与溅射源

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技术参数

  各种金属氧化物、氟化物及硫化物的真空蒸发镀膜材料

氧化铝(Al2O3)
氧化铈(CeO2)
氧化铬(Cr2O3)
氧化铁(Fe2O3)
氧化铪(HfO2)
氧化铟(In2O3)
铟锡混合物(ITO)
钛酸镧(La2Ti2O7)
氧化镁(MgO)
氧化铌(Nb2O5)
一氧化硅(SiO)
二氧化硅(SiO2)
五氧化二钽(Ta2O5)
三氧化二钛(Ti2O3)
五氧化三钛(Ti3O5)
一氧化钛(TiO)
二氧化钛(TiO2)
氧化钇(Y2O3)
氧化锌(ZnO)
氧化锆(ZrO2)
氟化铝(AlF3)
氟化钡(BaF2)
氟化铈(CeF3)
氟化镧(LaF3)
氟化锂(LiF)
氟化镁(MgF2)
冰晶石(Na3AlF6)
氟化钇(YF3)
氟化镱(YbF3)
氮化铝(AlN)
氮化硼(BN)
氮化硅(Si3N4)
硫化锌(ZnS)
硒化锌(ZnSe)
铝(Al)
铬(Cr)
铜(Cu)
锗(Ge)
镍(Ni)
硅(Si)
锡(Sn)
钛(Ti)

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